勻膠(jiao)機(ji)是在(zai)(zai)高(gao)速旋轉的(de)基(ji)片(pian)上，滴(di)注各類膠(jiao)液，利用離心力使滴(di)在(zai)(zai)基(ji)片(pian)上的(de)膠(jiao)液均勻地涂(tu)覆在(zai)(zai)基(ji)片(pian)上的(de)設備，膜的(de)厚度(du)取(qu)決于勻膠(jiao)機(ji)的(de)轉速和溶膠(jiao)的(de)黏度(du)。

   該設(she)備主(zhu)要用(yong)于晶片(pian)(pian)涂(tu)光(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)，有自(zi)動(dong)、手(shou)動(dong)和(he)半自(zi)動(dong)三種工(gong)作方(fang)式(shi)(shi)。送片(pian)(pian)盒(he)中的(de)(de)晶片(pian)(pian)，自(zi)動(dong)送到承(cheng)片(pian)(pian)臺上(shang)，用(yong)真空(kong)吸附(fu)(fu)，在主(zhu)軸電機的(de)(de)帶動(dong)下(xia)旋轉(zhuan)，轉(zhuan)速(su)100—9900轉(zhuan)/分(fen)（±10轉(zhuan)/分(fen)），起動(dong)加(jia)(jia)速(su)度可調。每道(dao)程序的(de)(de)持續時間(jian)，轉(zhuan)速(su)、加(jia)(jia)速(su)度、烘(hong)烤溫度、烘(hong)烤時間(jian)、預烘(hong)時間(jian)等(deng)工(gong)藝參數均可通過編程控(kong)制。勻膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)機有一(yi)(yi)個或(huo)多(duo)(duo)個滴(di)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)系統，可涂(tu)不(bu)同(tong)品種的(de)(de)光(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)。滴(di)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)的(de)(de)方(fang)式(shi)(shi)有晶片(pian)(pian)靜止或(huo)旋轉(zhuan)滴(di)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)。隨著(zhu)晶片(pian)(pian)尺寸的(de)(de)增(zeng)(zeng)大(da)，出現(xian)了多(duo)(duo)點滴(di)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)或(huo)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)口(kou)移(yi)動(dong)式(shi)(shi)滴(di)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)。膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)膜(mo)厚度一(yi)(yi)般在500—1000nm，同(tong)一(yi)(yi)晶片(pian)(pian)和(he)片(pian)(pian)與片(pian)(pian)間(jian)的(de)(de)誤差小于±5nm。滴(di)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)泵有波紋管式(shi)(shi)和(he)薄膜(mo)式(shi)(shi)兩種，并(bing)有流量(liang)計進(jin)(jin)行恒量(liang)控(kong)制。對涂(tu)過膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)的(de)(de)晶片(pian)(pian)有上(shang)下(xia)刮邊功能，去掉晶片(pian)(pian)正反面多(duo)(duo)余(yu)的(de)(de)光(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)。烘(hong)烤工(gong)位，有隧道(dao)式(shi)(shi)遠紅外加(jia)(jia)熱(re)，微波快速(su)加(jia)(jia)熱(re)以及電阻加(jia)(jia)熱(re)的(de)(de)熱(re)板(ban)爐等(deng)。涂(tu)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)后(hou)的(de)(de)晶片(pian)(pian)要按一(yi)(yi)定的(de)(de)升溫速(su)率(lv)進(jin)(jin)行烘(hong)干。烘(hong)烤過程在密封的(de)(de)爐子中進(jin)(jin)行，通過抽真空(kong)排除揮發(fa)出來(lai)(lai)的(de)(de)有害物質。前(qian)烘(hong)結束后(hou)，將晶片(pian)(pian)送入收片(pian)(pian)盒(he)內。主(zhu)軸轉(zhuan)速(su)的(de)(de)穩定性(xing)和(he)重(zhong)復(fu)性(xing)是決定膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)膜(mo)厚度均勻性(xing)和(he)一(yi)(yi)致(zhi)性(xing)的(de)(de)關(guan)鍵(jian)，起動(dong)加(jia)(jia)速(su)度的(de)(de)大(da)小是決定是否能將不(bu)同(tong)粘(zhan)稠度的(de)(de)光(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)甩開(kai)并(bing)使膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)均勻的(de)(de)決定因(yin)素(su)。近年來(lai)(lai)的(de)(de)發(fa)展趨勢是在自(zi)動(dong)工(gong)作方(fang)式(shi)(shi)的(de)(de)勻膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)機中加(jia)(jia)入預涂(tu)增(zeng)(zeng)粘(zhan)劑（HMDS）的(de)(de)冷板(ban)和(he)熱(re)板(ban)工(gong)藝模塊，以增(zeng)(zeng)強光(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)和(he)晶片(pian)(pian)的(de)(de)附(fu)(fu)著(zhu)力。

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